基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法专利登记公告

专利名称：基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法

摘要：本发明公开了一种基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法，用于解决在不规则网格模型的拓扑优化设计中引入拔模制造约束的技术问题。技术方案是采用几何背景网格的方法，将有限元网格质心沿着拔模分模/型面映射到几何背景网格上，约束质心处于同一几何背景网格的有限元单元的伪密度沿着分模/型面方向依次减小。有效的克服了自由网格划分的有限元模型不能应用拔模约束的问题。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210071062.2

专利申请（专利权）人：西北工业大学

专利发明（设计）人：谷小军;朱继宏;高欢欢;张卫红;李军朔

主权项：一种基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法，其特征在于包括以下步骤：(a)通过结构的CAD模型建立有限元模型，定义载荷和边界条件；(b)将拔模的分模/型面(4)划分成与有限元网格(6)尺寸相同的几何背景网格(7)；对于设计空间上的任意一个有限元网格i，其质心沿拔模的分模/型面(4)法向的投影一定隶属于某一个几何背景网格m，m∈(1，2，...，27)；(c)建立拓扑优化模型：find?X＝(x1，x2，K，xn)min?Φ(X)s.t.?KU＝F

专利地区：陕西