用于为垂直磁记录磁极提供侧屏蔽体的方法和系统专利登记公告

专利名称：用于为垂直磁记录磁极提供侧屏蔽体的方法和系统

摘要：本发明涉及用于为垂直磁记录磁极提供侧屏蔽体的方法和系统。公开了一种用于制作具有非磁性中间层的磁性换能器的方法。在中间层上提供了磁极。磁极具有侧面、底部、比底部更宽的顶部和紧邻ABS位置的前斜面。至少邻近磁极的侧面提供侧间隙。底部抗反射涂层(BARC)提供在中间层上。底部抗反射涂层可通过使用液体蚀刻剂去除，并且邻近至少一部分侧间隙。掩模层被提供在底部抗反射涂层上。光刻地传递图案到掩模层中，形成屏蔽掩模。部分底部抗反射涂层暴露于液体蚀刻剂，以便磁极的所述侧面和侧间隙脱离底部抗反射涂层。至少提供磁性侧屏蔽体。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210071352.7

专利申请（专利权）人：西部数据（弗里蒙特）公司

专利发明（设计）人：X·曾;D·万;H·袁;L·王;M·王;H·孙

主权项：一种用于制作具有中间层和空气轴承表面ABS的磁性换能器的方法，所述方法包括：在所述中间层上提供磁极，所述磁极具有多个侧面、底部、比所述底部更宽的顶部以及紧邻ABS位置的前斜面；提供邻近所述磁极的至少多个侧面的侧间隙；在所述中间层上提供底部抗反射涂层BARC，所述底部抗反射涂层可通过使用液体蚀刻剂去除并且邻近所述侧间隙的至少一部分；在所述底部抗反射涂层上提供掩膜层；光刻地传递图案到所述掩膜层中，形成屏蔽掩模；将一部分所述底部抗反射涂层暴露于所述液体蚀刻剂，以便所述磁极的多个侧面和所述侧间隙脱离所述底部抗反射

专利地区：美国