涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置专利登记公告

专利名称：涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置

摘要：本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速

专利类型：发明专利

专利号：CN201210071652.5

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：大塚庆崇;吉富济;田上真也;米冈诚司

主权项：一种涂敷膜形成方法，其中，在狭缝状的喷嘴喷出口上形成处理液的液珠，并且从上述喷出口向在上述喷出口的下方相对于该喷出口进行移动的基板喷出处理液，或者从相对于该基板进行移动的上述喷出口向该基板喷出处理液，在上述基板上形成规定膜厚的涂敷膜，该涂敷膜形成方法的特征在于，若将规定的经过时间Ts的起始时和结束时的上述液珠的量的差设为ΔB，将在规定的经过时间Ts的期间内从上述喷出口喷出的处理液的喷出液量设为Q，将处理液在基板上干燥固化的部分的浓度设为β，将上述喷嘴喷出口的在基板宽度方向上的尺寸设为L，将经过时间Ts中的

专利地区：日本