基于异向介质的光电器件抗反射层结构专利登记公告
专利名称：基于异向介质的光电器件抗反射层结构
摘要：本发明公开了一种基于异向介质的光电器件抗反射层结构，该抗反射层由具有负介电常数和负磁导率的异向介质材料制成，且异向介质呈周期性排列结构。本发明使得光电器件具有更高的抗反射能力，能够提高光电器件的光电转换效率。
专利类型：发明专利
专利号：CN201210072386.8
专利申请（专利权）人：河海大学常州校区
专利发明（设计）人：孙洪文;朱玉峰;仇浩;万萍;范瑞
主权项：?一种基于异向介质的光电器件抗反射层结构，其特征在于：该抗反射层由具有负介电常数和负磁导率的异向介质材料制成，且异向介质呈周期性排列结构。
专利地区：江苏
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