MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法专利登记公告

专利名称：MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法

摘要：本发明属于微机电系统(MEMS)领域，涉及一种MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法。其特征是利用微加工方法制作双层结构的SU-8模具，再用浇注方法制作基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)的空气放大器，然后通过PDMS-PDMS键合得到PDMS空气放大器，最后通过PDMS与玻璃的键合来增加装置的强度，进而完成了MEMS空气放大器离子聚集装置的制作；最终得到的空气放大器气体入口缝隙为50μm，并且缝隙可以倾斜各种角度、缝隙与壁面处深度为150μm、中心槽聚集离子位置处深度为350μm。本发明采用SU8模具和PD

专利类型：发明专利

专利号：CN201210073540.3

专利申请（专利权）人：大连理工大学

专利发明（设计）人：邹赫麟;高帅

主权项：一种MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法，其特征在于如下步骤：(1)制作MEMS空气放大器模具，包括二次光刻：第一次光刻：在硅片上氧化一层二氧化硅，然后旋涂一层厚度150μm的胶层，对胶层前烘；制作两个掩模板，第一个掩模板上带有空气放大器缝隙和壁面结构图形并带有标记点图形，其中缝隙宽度为50μm，第二个掩模板上带有空气放大器中心槽离子聚焦区图形和对准标记点图形；将第一个掩膜版放置在胶层上进行紫外线曝光，对胶层后烘得到交联胶层，使用显影液显影，得到第一层空气放大器模具结构，即缝隙与壁面微结构和对准标记点

专利地区：辽宁