一种用于黑硅制备的设备专利登记公告

专利名称：一种用于黑硅制备的设备

摘要：本发明公开了一种用于黑硅制备的设备，包括反应室(100)、气体流量控制装置(110)、压强调控装置(140)、冷却装置(150)线圈功率源组件、平板功率源组件，其特性在于：所述反应室(100)上方设置石英盖(101)，所述反应室(100)下部安装有用于放置待加工硅片样品的支撑台(102)；所述气体流量控制装置(110)，包括不少于两条用于通工作气体的气路(111)，所述压强调控装置(140)，包括：出气口(141)、机械泵(142)、分子泵(143)；所述冷却装置(150)直接连接到所述支撑台(102)。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210074956.7

专利申请（专利权）人：北京大学

专利发明（设计）人：张海霞;朱福运;邸千力;张晓升

主权项：一种用于黑硅制备的设备，包括反应室(100)、气体流量控制装置(110)、压强调控装置(140)、冷却装置(150)、线圈功率源组件、平板功率源组件，所述线圈功率源组件包括线圈射频功率发生器(120)、线圈射频匹配器(121)、射频线圈(122)，所述平板功率源组件包括平板射频功率发生器(130)、平板射频匹配器(131)和平板电极(132)，其特性在于：所述反应室(100)上方设置石英盖(101)，所述反应室(100)下部安装有用于放置待加工硅片样品的支撑台(102)；所述气体流量控制装置(110)，包

专利地区：北京