利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法专利登记公告

专利名称：利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法

摘要：本发明涉及一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法，属于物理技术材料改性技术领域。本发明的特点是将蛇纹石粉末放入离子注入机中，并对离子注入机的腔体进行抽真空，真空度要求为1×10-3-1×10-6Torr；以离子形式注入NH3，离子注入能量为30-60kev；注入通量为1×1017cm-2；注入时间为3-20min；最后将经离子注入后的样品取出，即获得有“N”元素注入的蛇纹石样品。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210075141.0

专利申请（专利权）人：上海大学

专利发明（设计）人：朱萍;周鸣;王良有;陈艳;周劲

主权项：一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法，其特征在于具有以下的过程和步骤：a、取一定量的蛇纹石样品，经粉碎和球磨，得到粒径小于100μm的蛇纹石矿粉；将该蛇纹石粉末放入离子注入机的腔体中，并且对离子注入机的腔体进行抽真空；真空度要求为1×10?3?1×10?6?Torr；b、以离子形式注入NH3，离子注入能量为30?60?kev；注入通量为1×1017cm?2；注入时间为3?20min；c、最后将上述离子注射后的样品从离子注入机中取出，获得插入有“N”元素的蛇纹石样品。

专利地区：上海