一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构专利登记公告

专利名称：一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构

摘要：本发明提供了一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构及其制作方法，场致发射显示结构由阴极基板和阳极基板组成，所述的阴极基板和阳极基板之间设有厚膜介质隔离子，隔离子设置于阴极基板的玻璃基底上，隔离子与玻璃基底牢固粘在一起成一整体。隔离子在水平方向和竖直方向上均匀间隔排列，在水平和竖直方向上相邻隔离子之间的距离均为10-50mm。所述的场致发射显示结构有二极结构、三极结构和多极结构。本发明可以实现场致发射显示结构所用的隔离子图形化，避免了制作隔离子时的复杂安装工艺，解决了隔离子放置存在对位不准的问题，并且使

专利类型：发明专利

专利号：CN201210082091.9

专利申请（专利权）人：福州大学

专利发明（设计）人：张永爱;郭太良;周雄图;叶芸;胡利勤;曾祥耀

主权项：一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构，其特征在于：场致发射显示结构由阴极基板和阳极基板组成，所述的阴极基板和阳极基板之间设有厚膜介质隔离子；所述的场致发射显示结构包括二极结构、三极结构和多极结构。

专利地区：福建