利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置及方法专利登记公告

专利名称：利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置及方法

摘要：利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置及方法，涉及测量光学薄膜厚度的装置及方法。它是为了解决现有的光学薄膜厚度的方法的测量精度低的问题。其装置：垂直入射至挡光板的偏振光束覆盖挡光板上的一号狭缝和二号狭缝，该偏振光束经待测光学薄膜透射并经一号狭缝出射形成第一束偏振光；该偏振光束二号狭缝出射形成第二束偏振光；第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器的探测面上，并形成干涉条纹，CCD探测器的探测面与挡光板相互平行。其方法：任取一段干涉条纹与光强公式进行拟合，获得待测光学薄膜引起的光程差，进而获得待测光学薄膜

专利类型：发明专利

专利号：CN201210084551.1

专利申请（专利权）人：黑龙江工程学院

专利发明（设计）人：贺泽龙;王司;白继元;白云峰;李林军

主权项：利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置，其特征是：它包括挡光板(2)和CCD探测器(3)；挡光板(2)上开有一号狭缝(21)和二号狭缝(22)；待测光学薄膜(1)覆盖并固定在一号狭缝(21)的入射面上；垂直入射至挡光板(2)的偏振光束覆盖挡光板(2)上的一号狭缝(21)和二号狭缝(22)，该偏振光束经待测光学薄膜(1)透射并经一号狭缝(21)出射形成第一束偏振光；该偏振光束二号狭缝(22)出射形成第二束偏振光；第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器(3)的探测面上，并形成干涉条纹，CCD探测器(3)

专利地区：黑龙江