一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法专利登记公告

专利名称：一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法

摘要：本发明公开一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法，把硅片置入如下溶液中：包括组分：酸5-10%，有机醇5-10%，水80-85%；以重量百分比计；所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸，所述有机醇为乙醇或丙三醇，所述水为去离子水；以硅片为阳极，以不锈钢或惰性电极材料为阴极，在40-60V电压下，处理1-8小时，取出硅片，即可得到双面纳米孔硅片；本发明采用硅片无氟阳极氧化技术工艺，该方法与环境兼容性好，具有环保的特点；因溶液为室温，简化了硅片的处理工序；本发明处理后的硅片表面纳米孔的直径和深度根据工艺调整

专利类型：发明专利

专利号：CN201210087659.6

专利申请（专利权）人：河海大学常州校区

专利发明（设计）人：蒋永锋;包晔峰;杨可

主权项：一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液，其特征在于，包括如下组分：酸5?10%，有机醇5?10%，水80?85%；以重量百分比计；所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸，所述有机醇为乙醇或丙三醇，所述水为去离子水。

专利地区：江苏