光刻装置及光刻装置的制造方法专利登记公告

专利名称：光刻装置及光刻装置的制造方法

摘要：一种光刻装置，包括一光罩，具有多种结构，该等结构系大体上沿一可预设而朝该光罩的延伸方向延伸；一装置，用于产生电磁辐射以及导引该电磁辐射至该光罩，其中该电磁辐射至少部分在该延伸方向被TM极化，使该被TM极化的电磁辐射具有一极化方向，该极化方向与该延伸方向呈90度角；以及一容纳装置，用于容纳一曝光的基材。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210089896.6

专利申请（专利权）人：因芬尼昂技术股份公司

专利发明（设计）人：M.尼伊霍夫

主权项：?一种光刻装置，包括光罩，具有多种结构，所述多种结构大体上在所述光罩上沿可预设的延伸方向延伸；装置，用于产生电磁辐射以及导引所述电磁辐射至所述光罩，其中所述电磁辐射至少部分相对于所述延伸方向被TM极化，使所述被TM极化的电磁辐射具有极化方向，所述极化方向与所述延伸方向呈90度角；容纳装置，用于容纳欲曝光的基材；以及装置，用于旋转经由光罩穿透传递的至少部分TM极化的电磁辐射的极化方向，以形成TE极化的电磁辐射，其中所述用于旋转极化方向的装置设置于所述光罩与所述容纳装置之间；其中所述电磁辐射被产生，使得只有所

专利地区：德国