基于齿槽结构的磁性流体单极密封装置专利登记公告

专利名称：基于齿槽结构的磁性流体单极密封装置

摘要：本发明提供了一种基于齿槽结构的磁性流体单极密封装置，包括：第一磁极、磁钢、第二磁极和磁性流体，所述磁钢的两侧为第一磁极和第二磁极，第二磁极上设有上齿槽，第一磁极上设有下齿槽，所述上齿槽和下齿槽交错设置，上齿槽和下齿槽之间形成密封间隙，磁性流体设置在上齿槽和下齿槽之间，所述第一磁极、磁钢、第二磁极和磁性流体围成的区域即密封区域。本发明由于齿槽结构的影响，密封间隙处的磁场变化较大，磁性流体在密封区域的分布将受到影响；同时磁性流体的磁性对齿槽位置的磁场也会产生影响，从而影响齿槽附近的磁场分布。通过有限元计算，这

专利类型：发明专利

专利号：CN201210098610.0

专利申请（专利权）人：哈尔滨工业大学

专利发明（设计）人：刘承军;江善林;赵猛;邹继斌;胡建辉;徐永向;尚静;李勇;王骞;禹国栋

主权项：一种基于齿槽结构的磁性流体单极密封装置，其特征在于，包括：第一磁极、磁钢、第二磁极和磁性流体，所述磁钢的两侧为第一磁极和第二磁极，第二磁极上设有上齿槽，第一磁极上设有下齿槽，所述上齿槽和下齿槽交错设置，上齿槽和下齿槽之间形成密封间隙，磁性流体设置在上齿槽和下齿槽之间，所述第一磁极、磁钢、第二磁极和磁性流体围成的区域即密封区域。

专利地区：黑龙江