光刻物镜非球面位置选择方法专利登记公告

专利名称：光刻物镜非球面位置选择方法

摘要：本发明涉及一种基于系统Zernike波像差分析与光刻过程对于Zernike系数敏感性的光刻物镜非球面位置选择方法，属于非球面光学设计技术领域。本方法首先确定初始系统结构中各元件位置与视场和孔径的关系，分析各类像差对于孔径与视场的依赖关系，得到各元件位置对于不同像差的校正敏感度；然后根据波像差分析结果确定主导像差；再根据光刻仿真结果确定Zernike波像差各分项像差敏感度；得到添加非球面位置范围，并进行试探性优化；最后选取使像质改善较大的非球面位置作为最终位置并进行深度优化，得到像质优良的最终非球面位置。根

专利类型：发明专利

专利号：CN201210099577.3

专利申请（专利权）人：北京理工大学

专利发明（设计）人：李林;马斌;李艳秋;刘丽辉;韩星;常军;黄一帆

主权项：光刻物镜非球面位置选择方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一、确定初始系统结构中各元件位置与视场和孔径的关系，分析各类像差对于孔径与视场的依赖关系，得到各元件位置对于不同像差的校正敏感度；非球面系统的五种基本像差为：球差SI，慧差SII，像散SIII，场曲SIV与畸变SV，球面系统对应的基本像差为S′I，S′II，S′III，S′IV，S′V；它们之间的关系为：SI＝S′I与ΔSI S II

专利地区：北京