软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液专利登记公告

专利名称：软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液

摘要：一种软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液，其特征在于它是由有机腐蚀剂0.5%-40%，有机腐蚀抑制剂0.5%-20%，有机表面活性剂0.5%-15%，有机pH调节剂0.01%-10%以及有机溶剂30%-95%组成。无水无磨料抛光液不含任何水分，避免了软脆易潮解晶体的遇水潮解开裂问题。同时，无水无磨料抛光液不含任何磨料，对软脆易潮解晶体表面损伤小，可以获得无损伤超光滑表面，而且不会产生沉淀，能够长时间的保存和使用。无水无磨料抛光液稳定性好，流动性好，易清洗，对设备腐蚀小。本发明是专门针对软脆易潮解晶

专利类型：发明专利

专利号：CN201210103495.1

专利申请（专利权）人：南京航空航天大学

专利发明（设计）人：李军;朱永伟;左敦稳;李标;夏磊;孙玉利;李鹏鹏;罗海军

主权项：一种软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液，其特征在于它是由有机腐蚀剂、有机腐蚀抑制剂、有机表面活性剂、有机pH调节剂以及有机溶剂组成，其质量百分比分别为：有机腐蚀剂???????0.5%?40%；有机腐蚀抑制剂???0.5%?20%；有机表面活性剂???0.5%?15%；有机PH调节剂???0.01%?10%；有机溶剂?????????30%?95%；各组份之和为100%。

专利地区：江苏