一种光谱测量装置专利登记公告
专利名称:一种光谱测量装置
摘要:本发明公开了一种光谱测量装置,包括入射狭缝、色散元件和成像元件等光学元件,在光学元件表面镀有光谱选择性薄膜,光谱选择性薄膜的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应,镀有光谱选择性薄膜的光学元件仅能出射薄膜选择波段内的光线,而大幅衰减光路中其他波长的光线,从而大幅降低光学系统的杂散光水平。
专利类型:发明专利
专利号:CN201210113260.0
专利申请(专利权)人:杭州远方光电信息股份有限公司
专利发明(设计)人:潘建根
主权项:一种光谱测量装置,包括入射狭缝(1)、色散元件(2)和一个或多个成像元件(3),光线从入射狭缝(1)进入光谱测量装置,经色散元件(2)分光后,成像元件(3)将色散光会聚成像,其特征在于,在成像元件(3)的表面镀有光谱选择性薄膜(4),所述的光谱选择性薄膜(4)的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应。
专利地区:浙江
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。