包括零磁性层的叠层专利登记公告

专利名称：包括零磁性层的叠层

摘要：提供一种包括零磁性层的叠层，其包括晶体取向夹层、设置在夹层上的零磁性层以及设置在零磁性层上的磁记录层。零磁性层是非磁性的或者具有小于约100emu/cc的饱和磁通密度(Bs)。零磁性层和磁性层包括由非磁性隔离物间隔开的颗粒。零磁性层在夹层和磁性层之间提供共格界面，其晶格失配小于约4％。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210116121.3

专利申请（专利权）人：希捷科技有限公司

专利发明（设计）人：J-Y·金;T·P·诺兰;K·康;S·王;V·D·恩古耶;A·海卢;C·C·陈

主权项：一种叠层，包括：晶体取向夹层；位于所述夹层上的零磁性层，所述零磁性层是非磁性的或者具有小于约100emu/cc的饱和磁通密度(Bs)并且包括由非磁性隔离物间隔的颗粒；以及位于所述零磁性层上的磁性层，所述磁性层包括由非磁性隔离物间隔的铁磁颗粒，其中所述夹层和所述磁性层之间的晶格失配小于约4％。

专利地区：美国