等离子体处理装置和等离子体处理方法专利登记公告

专利名称：等离子体处理装置和等离子体处理方法

摘要：本发明涉及一种感应结合型等离子体处理装置，能够对在感应结合型等离子体处理中在腔室内生成的环形等离子体内的等离子体密度分布乃至基板上的等离子体密度分布进行多样化精细地控制。在该感应结合型等离子体处理装置中，设置于电介质窗(52)上的RF天线(54)在径向上被分割成内侧线圈(58)、中间线圈(60)和外侧线圈(62)。从高频电源(72)通过RF供电线(68)、RF天线(54)和接地线(70)绕回到接地电位部件的情况下，更确切地从第一节点(NA)到第二节点(NB)使各线圈的高频分支传送路旋绕的情况下，使内侧线圈

专利类型：发明专利

专利号：CN201210118787.2

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：山泽阳平

主权项：一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有电介质窗的处理容器；在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；处理气体供给部，其向所述处理容器内供给期望的处理气体，以用于对所述基板实施期望的等离子体处理；设置在所述电介质窗外的RF天线，其用于在所述处理容器内，通过感应结合生成处理气体的等离子体；和高频供电部，其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力，所述RF天线具有：分别在径向隔开间隔相对地配置在内侧和外侧，并在设置于所述高频供电部的高频传送路径上的第一节点和第二节点之间并联电连接的

专利地区：日本