基于阴离子表面活性剂之特殊形貌介孔纳米粒子制备方法专利登记公告

专利名称：基于阴离子表面活性剂之特殊形貌介孔纳米粒子制备方法

摘要：一种基于阴离子表面活性剂之特殊形貌介孔纳米粒子制备方法，属于介孔纳米粒子制备方法。制备方法：在14-18℃条件下，1.0毫摩尔的Sar-Na完全溶于30mL的去离子水中，滴加2.0mL的0.1M的盐酸缓慢调节pH值至6.0-6.8，搅拌30分钟，滴加1.0mL的TEOS和0.1mL的APMS，所得混合物室温下搅拌10分钟，装釜，在15℃静置2小时，将反应釜转移至80℃烘箱中晶化20小时；冷却至室温，开釜、离心、洗涤；在40℃干燥48小时；反应产生两种产物，一种在溶液的上面，将其命名为AMS-U；另一种产物

专利类型：发明专利

专利号：CN201210122191.X

专利申请（专利权）人：中国矿业大学

专利发明（设计）人：曹希传;代文彦;李帅;耿浩然;陈敏敏;李国栋

主权项：一种基于阴离子表面活性剂之特殊形貌介孔纳米粒子制备方法，其特征是：采用阴离子表面活性剂为模板，通过水热合成方法制备出纳米孔洞粒子；具体制备方法：在14?18℃条件下，1.0毫摩尔的Sar?Na完全溶于30mL的去离子水中，滴加2.0mL的0.1M的盐酸缓慢调节pH值至6.0?6.8，剧烈搅拌30分钟，慢慢滴加1.0mL的TEOS和0.1mL的APMS混合物，所得混合物室温下继续搅拌10分钟，装釜，在15℃条件下静置2小时陈化，之后将反应釜转移至80℃烘箱中晶化20小时；静置和转移过程中禁止摇动；反应的比例

专利地区：江苏