制造透明胞室分层结构的方法专利登记公告

专利名称：制造透明胞室分层结构的方法

摘要：制造透明胞室分层结构的方法包括：获得透明叠层结构，该叠层依次包括由光刻树脂构成的第一层、附加层和第二层，其中附加层吸收光刻方法中适于用来蚀刻第一层的树脂的射线；在第二层上形成掩模，该掩模限定待成形胞室的位置；选择性地移除由掩模限定的一部分第二层和附加层，从而在第二层和附加层中形成第一组胞室；将至少一种光学活性物质填充到第一组的胞室中；在掩模被移开后，穿过第二层和附加层照射由光刻树脂构成的第一层，从而选择性地，相对于第一层中与附加层的剩余部分对齐的部分，该第一层中位置与第一组胞室对齐的那部分变为永久凝固；对

专利类型：发明专利

专利号：CN201210124170.1

专利申请（专利权）人：埃西勒国际通用光学公司;国家科研中心

专利发明（设计）人：皮埃尔·沙韦尔;热罗姆·巴莱;克里斯蒂安·博韦;让·保罗·卡诺;保罗·勒菲亚斯特

主权项：一种制造透明胞室分层结构(100)的方法，该方法包括如下步骤：a)获得透明的叠层结构，该叠层依次包括：由光刻树脂构成的第一层(10)、附加层(21)和第二层(22)，其中所述附加层(21)吸收光刻方法中适于用来蚀刻所述第一层的树脂的射线；b)在所述第二层(22)上形成掩模(30)，该掩模限定了待成形胞室(1)的位置；c)选择性地移除由所述掩模(30)限定的一部分所述第二层(22)和附加层(21)，从而在所述第二层和所述附加层中形成第一组胞室(1)；d)将至少一种光学活性物质填充到第一组的胞室(1)中；e)

专利地区：法国