一种新型宽幅遮阳材料及其制作方法专利登记公告
专利名称：一种新型宽幅遮阳材料及其制作方法
摘要：本发明涉及一种新型宽幅遮阳材料：由基材膜及在基材膜上依次顺序沉积的电介质膜层、金属膜层、电介质膜层、掺杂VO2膜层、电介质膜层组成。该遮阳材料的制备方法是：以厚度8μm-100μm，宽度1000mm-2500mm的柔性连续卷材为基材，经导向辊平整连续地进入磁控溅射装置反应室内，反应室抽真空，真空度不低于2×10-3Pa，采用真空镀膜技术在基材上依次沉积各膜层。该遮阳材料同时具备减光遮光、隔热保温的性能。
专利类型：发明专利
专利号：CN201210127440.4
专利申请（专利权）人：蒙特集团（香港）有限公司
专利发明（设计）人：励征
主权项：一种新型宽幅遮阳材料，由基材膜及在基材膜上依次顺序沉积的电介质膜层、金属膜层、电介质膜层、掺杂VO2膜层、电介质膜层组成。
专利地区：香港
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目，不代表该专利由我公司代理取得，上述专利权利属于专利权人，未经（专利权人）许可，擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利，请搜索专利权人联系方式，获得专利权人的授权许可。