表面改性纳米磨料硅片抛光液专利登记公告

专利名称：表面改性纳米磨料硅片抛光液

摘要：本发明公开一种可降低抛光表面粗糙度、清洗方便的表面改性纳米磨料硅片抛光液，由表面改性纳米磨料、两性表面活性剂、高分子表面活性剂、含氮羧酸类螯合剂、有机胺及纯水组成，pH值为10.0～12.0，各原料的质量百分比为：表面改性纳米磨料5％～50％，两性表面活性剂1％～5％，高分子表面活性剂1％～5％，含氮羧酸类螯合剂0.5％～5％，有机胺1％～10％，纯水余量，所述表面改性纳米磨料是采用SiO2或Al2O3将有机聚合物粒子表面改性而形成的复合聚合物粒子，粒径为200～2000nm。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210131336.2

专利申请（专利权）人：常熟奥首光电材料有限公司

专利发明（设计）人：侯军;崔京南;高远

主权项：一种表面改性纳米磨料硅片抛光液，其特征在于由表面改性纳米磨料、两性表面活性剂、高分子表面活性剂、含氮羧酸类螯合剂、有机胺及纯水组成，pH值为10.0～12.0，各原料的质量百分比为：FSA00000709874200011.tif

专利地区：江苏