应用于离子束抛光工艺的离子束确定性添加装置及离子束抛光系统专利登记公告

专利名称：应用于离子束抛光工艺的离子束确定性添加装置及离子束抛光系统

摘要：本发明公开了一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安

专利类型：发明专利

专利号：CN201210135948.9

专利申请（专利权）人：中国人民解放军国防科学技术大学

专利发明（设计）人：戴一帆;李圣怡;廖文林;解旭辉;周林;袁征

主权项：一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，其特征在于：所述离子束确定性添加装置包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，所述支撑架包括有固定所述靶材的靶材固定夹具，所述支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；所述支撑架底部装设有用于安装至所述离子束抛光系统的安装法兰。

专利地区：湖南