光学抗反射结构、其制法以及包含其的太阳能电池专利登记公告
专利名称：光学抗反射结构、其制法以及包含其的太阳能电池
摘要：一种光学抗反射结构，包含起伏表面结构，以及位于起伏表面结构上的纳米柱状结构。此外，也揭露包含上述光学抗反射结构的太阳能电池，以及上述光学抗反射结构的制造方法。
专利类型：发明专利
专利号：CN201210137760.8
专利申请（专利权）人：友达光电股份有限公司
专利发明（设计）人：杨伯川;詹逸民
主权项：一种抗反射结构，其特征在于，包含:一起伏表面结构；以及一纳米柱状结构，位于该起伏表面结构的至少一部分区域上。
专利地区：台湾
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