一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法专利登记公告

专利名称：一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法

摘要：本发明公开了一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。利用本发明，实现了对高斯光束和其它不均匀非平面波前光束的波前平顶化，实现光束的匀光，实现接近平面的波前光束。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210142241.0

专利申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所

专利发明（设计）人：贾佳;谢长青;刘明

主权项：一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，其特征在于，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。

专利地区：北京