碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法专利登记公告

专利名称：碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法

摘要：本发明公开了一种碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法，其特征步骤如下：使原本背面残液不可使用的碲镉汞材料通过化学腐蚀和机械抛光的办法，在不影响材料质量的情况下得以正常使用。该装置和方法的优点是：整个过程中清洗干净的碲镉汞外延薄膜表面始终被光刻胶所保护，从而不会导致碲镉汞外延薄膜被污染和氧化，也不会因为接触硬物而导致划伤，保证外延薄膜的洁净与表面完美。此技术使原本不可用的外延薄膜经过处理后可以使用，同时也保证了外延薄膜的质量不受影响，从而大大提高了碲镉汞外延薄膜材料制备的成品率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210142488.2

专利申请（专利权）人：中国科学院上海技术物理研究所

专利发明（设计）人：孙瑞贇;杨建荣;魏彦锋;张传杰;孙权志;陈倩男;张娟;陈晓静

主权项：一种碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法，其特征在于包括以下步骤：1)在100级洁净室中，对外延薄膜表面用薄胶进行光刻胶匀胶保护并进行切割，将外延薄膜样品表面四周残液切除；2)选取一块洁净的玻璃圆盘放置在可调温电炉上，温度调至80摄氏度。待玻璃盘升温后在其正中央区域涂上一块5厘米乘以5厘米的蜡，随后将外延薄膜样品有残液的面向上，水平放置于玻璃圆盘上蜡已融化的区域中，贴片完成后取下玻璃盘放置在易导热散热处，待蜡完全凝结后用刀片沿着外延薄膜边缘小心得将四周的蜡刮去；3)先用三氯乙烯冲洗玻璃盘表面，以去除残留蜡

专利地区：上海