环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法专利登记公告

专利名称：环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法

摘要：本发明涉及一种环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法，所述光学薄膜包括镀膜光学基底、氟化物膜层和SiO2或Al2O3膜层；SiO2或Al2O3膜层光学厚度2π/λ0×ndcosθ为λ0/4的偶数倍，λ0为中心波长，n为膜层折射率，d为膜层物理厚度，θ为入射角度。所述制备方法包括步骤：将镀膜光学基底进行清洗、干燥；在清洗干燥后的镀膜光学基底上制备氟化物膜层；在氟化物膜层上面制备一层光学厚度为四分之一中心波长的偶数倍的SiO2膜层或Al2O3膜层。本发明可以大大减小光学薄膜对有机污染物和水汽的吸附，对于应用波长

专利类型：发明专利

专利号：CN201210142793.1

专利申请（专利权）人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

专利发明（设计）人：邓文渊;金春水;常艳贺;靳京城

主权项：一种环境稳定性深紫外光学薄膜，包括镀膜光学基底、制备于镀膜光学基底上的氟化物膜层；其特征在于还包括制备于氟化物膜层上的氧化物膜层；所述氧化物膜层为SiO2或Al2O3膜层，其聚集密度大于0.95，表面粗糙度小于0.2nm，光学厚度为四分之一中心波长的偶数倍。

专利地区：吉林