一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法和装置专利登记公告

专利名称：一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法和装置

摘要：本发明公开了一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法，包括将第一激光光束和第二激光光束分别转换为第一切向偏振光和第二切向偏振光；第一切向偏振光经相位调制后投射到荧光样品上形成激发光斑；第二切向偏振光分解为第一工作光束和第二工作光束，第一工作光束和第二工作光束分别进行相位调制形成第一STED光束和第二STED光束，且经显微物镜投射到荧光样品上通过非相干叠加形成相应的STED光斑，该STED光斑的中心点与激发光斑的中心点重合得到聚焦光斑；收集荧光样品在该聚焦光斑作用下发出的荧光，经处理后得到显微图像。本发明还

专利类型：发明专利

专利号：CN201210144381.1

专利申请（专利权）人：浙江大学

专利发明（设计）人：匡翠方;李帅;薛懿;顾兆泰;刘旭

主权项：一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法，包括将第一激光光束和第二激光光束分别转换为第一切向偏振光和第二切向偏振光；所述第一切向偏振光经相位调制后投射到荧光样品上形成激发光斑；其特征在于：所述第二切向偏振光分解为第一工作光束和第二工作光束，所述第一工作光束和所述第二工作光束分别进行相位调制形成第一STED光束和第二STED光束，所述第一STED光束和所述第二STED光束经显微物镜投射到荧光样品上通过非相干叠加形成相应的STED光斑，该STED光斑的中心点与所述激发光斑的中心点重合得到聚焦光斑；收集荧光样品

专利地区：浙江