深度氧化法KPTA生产中的结晶分离方法及装备专利登记公告

专利名称：深度氧化法KPTA生产中的结晶分离方法及装备

摘要：本发明涉及一种深度氧化法KPTA生产中的结晶分离方法及装备，该方法对深度氧化反应器排出的浆料进行二道结晶，所述二道结晶包括依次进行的一结晶和二结晶两道结晶工序，所述一结晶在190℃～210℃条件下进行，所述二结晶在140℃～160℃条件下进行，对所述二结晶排出的浆料只进行一道过滤分离，所述过滤分离采用旋转压力过滤机（RPF）进行，过滤分离出的湿滤饼经干燥机干燥后形成产品KPTA，通过调节所述深度氧化和所述结晶的工艺条件，能够控制产品KPTA的粒径，该装备包括依次连接的一结晶器、二结晶器、过滤分离器和干燥机

专利类型：发明专利

专利号：CN201210149502.1

专利申请（专利权）人：中国昆仑工程公司

专利发明（设计）人：周华堂;罗文德;姚瑞奎;汪英枝;李利军

主权项：一种深度氧化法KPTA生产中的结晶分离方法，其对深度氧化反应器排出的浆料进行二道结晶，所述二道结晶包括依次进行的一结晶和二结晶两道结晶工序，所述一结晶在190℃～210℃条件下进行，所述二结晶在140℃～160℃条件下进行，对所述二结晶排出的浆料只进行一道过滤分离，所述过滤分离采用旋转压力过滤机进行，过滤分离出的湿滤饼经干燥机干燥后形成产品KPTA。

专利地区：北京