一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料及其制备方法

摘要：本发明公开了属于多孔材料及微加工技术领域的一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料及其制备方法。该类材料的前驱体为纳米模板材料与光刻胶的混合物，混合物仍具有光刻胶的基本物理性质，通过标准光刻工艺在衬底上成膜并实现微小尺寸的图形结构。直接对具有图形结构的混合物进行化学刻蚀去除模板材料，形成多孔聚合物膜；或者将具有图形结构的混合物在高温下碳化，再去除模板材料，形成多孔碳膜。本发明通过一步标准光刻工艺及一次刻蚀直接在衬底上实现了具有微米尺寸图形的纳米多孔聚合物或碳膜，其操作简单，成本低，且具有极好的与其他微型电子机械

专利类型：发明专利

专利号：CN201210151084.X

专利申请（专利权）人：清华大学

专利发明（设计）人：王晓红;申采为

主权项：一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料，其特征在于，所述的纳米多孔材料为具有图形结构的纳米多孔聚合物膜或纳米多孔碳膜材料。

专利地区：北京