一种利用化学腐蚀和化学镀的双参数测量光纤光栅传感器专利登记公告

专利名称：一种利用化学腐蚀和化学镀的双参数测量光纤光栅传感器

摘要：一种利用化学腐蚀和化学镀的双参数测量光纤光栅传感器，适用于光纤传感。其特征在于：该传感器是由相位掩膜法制成的光纤布拉格光栅，它被均匀分成两部分，光纤布拉格光栅的左半部分（1）被氢氟酸溶液腐蚀直径变细，并在左半部分上镀上一层金属（2），光纤布拉格光栅的右半部分（3）保持不变。该传感器的制作步骤为：采用相位掩模板法制作光纤布拉格光栅；将布拉格光栅左半部分放入氢氟酸溶液中腐蚀；在腐蚀后的光纤布拉格光栅表面吸附一层易氧化物质；在腐蚀后的光纤布拉格光栅表面生成一层薄金属层；对腐蚀后的光纤布拉格光栅进行化学镀金属。该

专利类型：发明专利

专利号：CN201210160268.2

专利申请（专利权）人：北京交通大学

专利发明（设计）人：周倩;宁提纲;李超;张婵;刘艳;谭中伟

主权项：一种利用化学腐蚀和化学镀的双参数测量光纤光栅传感器，其特征在于：该光纤光栅传感器是由相位掩膜法制成的光纤布拉格光栅，它被均匀分成两部分，光纤布拉格光栅的左半部分（1）被氢氟酸溶液腐蚀直径变细，并在左半部分（1）上镀上一层金属保护膜（2），光纤布拉格光栅的右半部分（3）保持不变作为参考光纤光栅。

专利地区：北京