一种具有Si₃N₄和AlN双陶瓷结构高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种具有Si₃N₄和AlN双陶瓷结构高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

摘要：本发明提供一种具有Si3N4和AlN双陶瓷结构高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法，属于太阳能利用技术领域。所述的涂层从底层到表面依次为红外发射层、吸收层和减反射层；第一层红外发射层由Cu膜或者Ag膜组成，厚度在50～250nm；第二层吸收层包括两个亚层结构，两个亚层均为Si3N4和AlN膜，第三层减反射层为SiO2膜，厚度为20～60nm。本发明提供的涂层具有可见-红外光谱高吸收率，红外光谱低发射率的特点，并且由于采用双陶瓷结构的干涉吸收层，具有良好的中高温热稳定性。且该涂层制备工艺简便、操作方便、易于

专利类型：发明专利

专利号：CN201210162468.1

专利申请（专利权）人：北京天瑞星光热技术有限公司

专利发明（设计）人：张秀廷;陈步亮;范兵;刘雪莲;王静;杨兴;张晋

主权项：一种具有Si3N4和AlN双陶瓷结构高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述的涂层从底层到表面依次为红外发射层、吸收层和减反射层；第一层红外发射层由Cu膜或者Ag膜组成，位于基体表面，厚度在50～250nm；第二层吸收层包括两个亚层结构，两个亚层均为Si3N4和AlN膜，第一亚层和第二亚层的厚度均为50～100nm；第一亚层中Si3N4的体积百分比为20~40%，其余为AlN；第二亚层Si3N4的体积百分比为10~30%其余为AlN；第一亚层位于第一层红外发射层上，第二亚层位于第一亚层上；第三层减反射层

专利地区：北京