中空介孔二氧化硅纳米粒子及制备方法专利登记公告

专利名称：中空介孔二氧化硅纳米粒子及制备方法

摘要：本发明涉及一种中空介孔二氧化硅纳米粒子及制备方法。1）将0.2～2份表面活性剂溶解于300份去离子水中，加热混合得到澄清溶液；2）将10～250份油相组分、0.1～18份硅源、5～35份有机烷烃、20～100份催化剂依次添加到步骤1）的体系中；在氩气保护下，60～80℃下反应进行2～4h；3）步骤2）的反应体系停止加热，降至室温，离心洗涤，得到中空介孔二氧化硅纳米粒子。中空介孔二氧化硅纳米粒子，是指平均孔径在4～8nm且外径在50～150nm，具有明显中空结构的介孔二氧化硅纳米粒子。本发明制备过程简单，反

专利类型：发明专利

专利号：CN201210163599.1

专利申请（专利权）人：天津大学

专利发明（设计）人：常津;窦妍;刘俊庆

主权项：一种中空介孔二氧化硅纳米粒子，其特征是二氧化硅纳米粒子其粒径在50～150nm，孔径在4～8nm；中空体积在70％～90％。

专利地区：天津