镓离子场发射微推进器专利登记公告

专利名称：镓离子场发射微推进器

摘要：本发明公开了一种镓离子场发射推进器，包括：发射部，具有毛细通道和毛细尖端；屏蔽部，位于发射部周围，用于屏蔽及保护发射部；加速部，位于所述发射部的前端，并与所述毛细尖端相邻，所述加速部的与所述毛细尖端相对应的位置开设有加速条状栅口，在所述毛细尖端和加速部之间施加有预定电压的电场；存储部，与所述毛细通道相连通，用于存储金属镓，与所述发射部之间具有预定的间距；金属镓通过毛细作用，由所述存储部经由所述毛细通道流到所述毛细尖端，在施加的所述电场的作用下产生离子羽流，从而获得推力。本发明具有如下优点：1)选取金属镓作

专利类型：发明专利

专利号：CN201210164419.1

专利申请（专利权）人：中国科学院力学研究所

专利发明（设计）人：高辉;康琦;段俐;胡良

主权项：一种镓离子场发射推进器，其特征在于，包括：发射部，具有毛细通道和毛细尖端；加速部，位于所述发射部的前端，并与所述毛细尖端相邻，所述加速部的与所述毛细尖端相对应的位置开设有加速条状栅口，在所述毛细尖端和加速部之间施加有预定电压的电场；屏蔽部，位于发射部周围，用于屏蔽所述加速部发射的电子流；存储部，与所述毛细通道相连通，用于存储金属镓，与所述发射部之间具有预定的间距；金属镓通过毛细作用，由所述存储部经由所述毛细通道流到所述毛细尖端，在施加的所述电场的作用下产生离子羽流，从而获得推力。

专利地区：北京