微透镜模具结构及其制作方法专利登记公告

专利名称：微透镜模具结构及其制作方法

摘要：本发明涉及微透镜模具结构及制作方法，包括以下步骤：在抛光的硅衬底正面和背面沉积氧化硅作为腐蚀掩膜材料，在硅衬底背面制作出腐蚀窗口图形；从所述硅衬底背面腐蚀硅衬底，形成腐蚀腔体，同时形成悬浮硅薄膜；将具有悬浮硅薄膜结构的结构衬底和支撑衬底键合形成密封腔体；将步骤（3）中获得的结构送入800°C～1200°C的高温环境中，悬浮硅薄膜发生塑性形变形成微透镜形貌腔体结构。由于直接选取抛光材料，微透镜形貌腔体具有较好的表面平整度，从而保证了微透镜腔的光学特性。本发明可以通过调节温度、压力、力载荷、薄膜厚度等方式对悬

专利类型：发明专利

专利号：CN201210169407.8

专利申请（专利权）人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所

专利发明（设计）人：徐德辉;熊斌;姚邵康;徐铭;马颖蕾;王跃林

主权项：一种微透镜模具结构制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步骤：（1）在抛光的硅衬底正面和背面沉积氧化硅作为腐蚀掩膜材料，通过光刻和薄膜刻蚀在硅衬底背面制作出腐蚀窗口图形；（2）从所述硅衬底背面腐蚀硅衬底，形成腐蚀腔体，同时在所述腐蚀腔体上形成悬浮硅薄膜；去除其余腐蚀掩膜材料；（3）将具有悬浮硅薄膜结构的结构衬底和支撑衬底键合形成密封腔体；使得所述密封腔体内的压强不等于外界环境的压强；（4）将步骤（3）中获得的结构送入800°C～1200°C的高温环境中，悬浮硅薄膜在该高温环境下发生塑性形变，形成微透镜

专利地区：上海