含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法专利登记公告

专利名称：含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法

摘要：本发明公开了含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法，属于光动力药物或光敏剂制备领域。本发明所述化合物具有以下有利于在生物医药领域应用的特点：两亲性,吸收光谱红移至更加有利于穿透人体组织的波长处，光敏产生活性氧的能力高。本发明的制备方法简单，具备显著的经济和社会效益。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210176672.9

专利申请（专利权）人：福州大学

专利发明（设计）人：黄剑东;张洪鹏;冬梅

主权项：一种非周边四取代的酞菁金属配合物，其特征在于：其结构式如下：，上式中，M代表金属离子，R代表取代基团，四个取代基团均处于酞菁环的非周边位置，称a位，即1(4)，8(11)，15(18)，22(25)位置，其中M为Zn2+、Co2+、Ni2+、Fe2+或Cu2+，取代基团R为：。2012101766729100001dest_path_image002.jpg,2012101766729100001dest_path_image004.jpg

专利地区：福建