抗辐射摄像装置专利登记公告

专利名称：抗辐射摄像装置

摘要：本发明涉及一种抗辐射摄像装置，包括抗辐射重点屏蔽装置和高辐射屏蔽加护装置，其中抗辐射重点屏蔽装置包括ZF6铅玻璃一、机芯、圆筒一、后端盖一、电缆接头，高辐射屏蔽加护装置包括ZF6铅玻璃二、圆筒二、后端盖二，圆筒一上设有圆柱销一、圆柱销二分别与圆筒二内的销槽一、销槽二定位并通过螺纹环压紧。本发明采用在抗辐射重点屏蔽装置的圆筒一内部充填铅珠，重点屏蔽γ射线、中子对摄像机CMOS及电路微处理器产生的危害，结构整体呈一圆筒状，表面没有任何装置、零件和标准件，适合核环境条件下使用，同时整体结构密封合理，防护等级可达

专利类型：发明专利

专利号：CN201210190869.8

专利申请（专利权）人：天津市联大通讯发展有限公司

专利发明（设计）人：张子方;朱小华;曹俊灵;卢希美;高旭聪

主权项：一种抗辐射摄像装置，包括抗辐射重点屏蔽装置和高辐射屏蔽加护装置，其特征在于：所述的抗辐射重点屏蔽装置包括ZF6铅玻璃一、机芯、圆筒一、后端盖一、电缆接头，ZF6铅玻璃一由外压螺纹环一和玻璃定位螺纹环一压紧固定，通过螺纹连接到圆筒一的一端，圆筒一的另一端螺纹连接后端盖一，后端盖一连接电缆接头，电缆接头与电缆连接，机芯定位在玻璃定位螺纹环一之后，在圆筒一的内部充填有铅珠；所述的高辐射屏蔽加护装置包括ZF6铅玻璃二、圆筒二、后端盖二，ZF6铅玻璃二由外压螺纹环二和玻璃定位螺纹环二压紧固定，通过螺纹连接到圆筒二的

专利地区：天津