一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底及制备专利登记公告

专利名称：一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底及制备

摘要：一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底，为在金属盲孔阵列表面涂覆增益介质的表面增强拉曼光谱基底结构，基底金属上均布有圆形、矩形或三角形盲孔阵列，涂覆的增益介质为罗丹明6G/聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，该薄膜通过在有机溶剂中溶入染料分子制备，将罗丹明6G和聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯甲烷中，然后涂覆在基底金属铬膜表面并烘干，形成在基底金属铬膜表面上涂覆有增益介质的薄膜，采用聚焦离子束刻蚀技术在上述薄膜表面加工出盲孔阵列。本发明的优点是：在传统的SERS基底上引进增益介质材料，补偿金属损耗，得到了远高于不含增益介质基

专利类型：发明专利

专利号：CN201210191115.4

专利申请（专利权）人：南开大学

专利发明（设计）人：刘海涛;张鑫

主权项：一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底，其特征在于：为在金属盲孔阵列表面涂覆增益介质的表面增强拉曼光谱基底结构，基底金属上均布有圆形、矩形或三角形盲孔阵列，金属基底上涂覆的增益介质为罗丹明6G/聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。

专利地区：天津