蒸镀掩模板专利登记公告

专利名称：蒸镀掩模板

摘要：本实用新型涉及一种蒸镀掩模板，包括主图形区域、辅助图形区域和半刻线，半刻线为四边凹槽，且半刻线的刻蚀深度h是掩模板厚度H的40%-60%；半刻线的线径≤2mm。本实用新型涉及的掩模板，在去除辅助图形时，不需要其他辅助工具，就能成功的将辅助图形从主图形区域剥离，且剥离质量高；剥离后的掩模板外边框边缘整齐光滑无毛刺，外边框对位时不会导致位置偏差；还不会破坏掩模框架，可提高蒸镀质量。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN201220016198.9

专利申请（专利权）人：昆山允升吉光电科技有限公司

专利发明（设计）人：魏志凌;高小平;郑庆靓

主权项：一种蒸镀掩模板，包括：主图形区域，具有满足蒸镀要求的开口，主图形开口尺寸在30??180μm的范围内；辅助图形区域，用于提供拉力的施力点；其特征在于，掩模板还具有半刻线，半刻线一边连接主图形区域，一边连接辅助图形区域。

专利地区：江苏