用于负型复制层曝光后的显影剂和制作印刷版的工序以及该显影剂的用途专利登记公告

专利名称：用于负型复制层曝光后的显影剂和制作印刷版的工序以及该显影剂的用途

摘要： 本发明涉及用于负型感光复制层的显影剂.显影剂由水、有机溶剂、表面活性剂、碱性物质、络合剂、缓冲剂、乳化剂、正链烷酸组成.本发明还涉及使用该显影剂混和物的印刷版制作工序.使用该显影剂除能满足快速良好的显影效果及显影装置和生态学传统要求外,还能消除显影中形成斑点和微丝的麻烦.该显影剂不仅普遍适用于不含粘合剂复制层,还普遍适用于含粘和剂的复制层.

专利类型：发明专利

专利号：CN85107915

专利申请（专利权）人：赫彻斯特股份公司

专利发明（设计）人：格哈德·马克; 伯吉特·马勒; 古恩特·扎格; 沃纳·弗拉斯

主权项： 在基片上涂布的负型复制层，曝光后的显影剂是由一种混合物构成，其特征在于它含有水，至少一种有机溶剂，至少一种碱性物质，至少一种络合剂以及至少一种表面活性剂，其中所用的表面活性剂具有阴离子结构，显影剂里还含有至少一种乳化剂，至少一种正链烷酸和／或其盐，和至少一种缓冲剂。

专利地区：德国