用椭圆仪监控多层介质膜的方法专利登记公告

专利名称：用椭圆仪监控多层介质膜的方法

摘要： 一种镀制多层光学薄膜的监控方法.采用椭圆偏振光测厚仪监控,真空镀膜机镀制.该方法的特征是可以方便地确定镀制某层膜所需的参量φ值和△值,也能测知该层的实际折射率和几何厚度(或光学厚度).它适用于单层或多层介质膜,滤光片和宽带膜,λ/4膜和非λ/4膜等,是很有前途的监控方法.

专利类型：发明专利

专利号：CN85108747

专利申请（专利权）人：北京师范大学

专利发明（设计）人：沈繁宜; 尚世弦; 郑东东

主权项： 一种镀制多层光学薄膜的监控方法，在镀膜机上安装椭圆偏振光测厚仪，欲镀制第ｍ层时，先找出镀制该层所需的ψ值和Δ值，然后将椭圆仪置于相应位置（例如消光式椭圆仪为Ａ值和Ｐ值），接着开镀，当镀到所需膜厚，椭圆仪将有显示（例消光式椭圆仪表现为光点达到最暗），然后停镀，此膜即为所需的第ｍ层膜，其特征在于找出第ｍ层的ψ值和Δ值，不仅要考虑该层的折射率和几何厚度，还要考虑已镀的各层膜的折射率和几何厚度以及基片的折射率，所依据的公式为＊＊＊。

专利地区：北京