带有保护膜的硅抛光片与外延片专利登记公告

专利名称：带有保护膜的硅抛光片与外延片

摘要： 该实用新型属于半导体材料,即带有保护膜的硅抛光片与外延片.保护膜的厚度500A以上;保护膜可是有机物,也可是无机物,如SiO₂、Al₂O₃、或光刻胶、硅油等等.合格的硅抛光片与外延片加上保护膜以后,可以用袋装或盒装长期存放和远途运输,使硅抛光片与外延片不沾污、不划伤,以保持其高完美度与高洁净度.以利提高半导体材料的质量,从而提高半导体器件的质量.此保护膜生产工艺简单、成本低.

专利类型：实用新型专利

专利号：CN85203385

专利申请（专利权）人：河北工学院

专利发明（设计）人：刘玉岭

主权项： 一种用于制造半导体器件的硅抛光片与外延片，其长期保存和运输是用软塑或纸袋分片包装，或外部用硬塑盒、内底聚丙烯刻槽、间隙立插式，高纯密封包装；本实用新型的特征是：在合格的硅抛光片与外延片的表面有一层用热氧化方法或气相淀积法等器件制备中的钝化方法生长的保护膜，目的是取代硅抛光片与外延片长期保存和运输用袋装或盒装的方法。

专利地区：天津