加保护层的方法专利登记公告

专利名称：加保护层的方法

摘要： 光刻工艺包括在衬底上旋涂保护层并将掩膜图形转移到保护层上而后进行曝光,及在图形被曝光后在衬底上形成该图形.当保护层显影图形因加保护层工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时,将参数的值设置到与脉动的极值相符.

专利类型：发明专利

专利号：CN86103644

专利申请（专利权）人：株式会社日立制作所

专利发明（设计）人：伊藤铁男; 田沼正也; 中∴义之; 门田和也; 小林一成

主权项： 施加光刻保护层的方法包括为衬底施涂保护层的工艺过程，其特征在于上述施加光刻保护层的方法包括：将掩膜图形转移到已涂了保护层的膜上，而后进行曝光的工艺，和当图形被曝光后在衬底上形成图形的显影过程，其中当上述的保护层的显影图形随着上述加保护层工艺中参数的增加或减少而脉动变化时，上述的参数值被设置到某一个值，该值与上述的脉动的极值相对应。

专利地区：日本