用于表面材料合成的真空反应室专利登记公告

专利名称：用于表面材料合成的真空反应室

摘要：用于表面材料合成的真空反应室装置，它可用来对工件表面进行渗非金属元素或渗金属等操作。该真空室壁不采用通冷却水结构，而采用充填绝热材料层的结构，反应室内设有热交换器，风扇及灭弧电阻。反应室为分体式结构，由固定室和活动室组成。活动室可以沿导轨运动而与固定室分开或合紧。该真空反应室热能损失小、升温快。冷却时能加快冷却速度。提高工作效率，并且易于进行装卸工件的操作以及易于进行检修和保养。

专利类型：实用新型专利