多用对向靶溅射仪专利登记公告

专利名称：多用对向靶溅射仪

摘要： 本实用新型涉及测射技术领域。其具有两对对向靶，磁场和靶面垂直，并且同电场一起，起到约束等离子体的作用，液氮盒可有效地控制测射时基板的温度，可连续旋转基板架和带状基板用基板架可保证测射出的薄膜均匀性更好，故此设备能够实现高速、低温，几乎无偏析的测射，可以制备多种材料的薄膜，外延单晶薄膜。对于生产和科研提供了快速、方便的良好设备和手段。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN86204865

专利申请（专利权）人：天津大学

专利发明（设计）人：姜恩永; 刘玉光; 李华; 张西祥; 吕旗; 任敬

主权项： 一种由真空室、直流电源和射频电源组成的溅射装置，其特征在于　　ａ．两对大小相同，但材质可以不同的靶和一对双孔靶罩，四只靶两两固定在真空室中的两个柱形空室的相对面上，一对双孔靶罩，用来掩盖或露出四只靶。　　ｂ．由直流电机和锥形直齿轮带动的连续旋转基板架和放置３寸或５寸软盘片的圆形夹具。　　ｃ．冷却基板的液氮盒。　　ｄ．带状基板用基板架，它放置在真空室中，靶径以外的空间中。

专利地区：天津