高均匀膜层镀膜装置专利登记公告

专利名称：高均匀膜层镀膜装置

摘要： 本装置能在凸凹平三种基片上涂高均匀膜层，其摩擦轨道（２８或２８ａ）由一对不具轴对称的面对称曲面构成。工件夹具（３５）距蒸发源（１５或１９）最近的摆动极值角大于距蒸发源（１５或１９）最远的摆动极值角；或在摩擦轨道（２８）下方的镀膜室底盘（８）上同时装上一个可调可折可卸的空间遮挡片载台装置（４８）。且操作简单、使用方便、重复性高，生产效率是现有技术的１至４倍。既能显著提高光学（或电子）元件及整机的质量，又能降低其成本。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN86205339

专利申请（专利权）人：周时培

专利发明（设计）人：周时培

主权项： 用于基片涂膜，特别是在基片上涂高均匀膜层的镀膜装置，它的蒸发源（１５或１９）平行并置于被动轮（３２）下方，在被动轮（３２）上方（或下方）装有一个摩擦轨道（２８或２８ａ），工件夹具（３５）上装有一个摩擦轮（４０），摩擦轮（４０）在摩擦轨道（２８或２８ａ）上滚动，其特征在于：　　（１）摩擦轨道（２８或２８ａ）至少由一对不具轴对称的面对称曲面构成，工件夹具（３５）距蒸发源（１５或１９）最近的摆动极值角大于距蒸发源（１５或１９）最远的摆动极值角。　　（２）或在蒸发源（１５或１９）正前方，摩擦轨道（２８），被动轮

专利地区：四川