物理气相沉积用的涂层装置专利登记公告

专利名称：物理气相沉积用的涂层装置

摘要： 本实用新型为物理气相沉积用的涂层装置，将被沉积的基体安放在基体支持件上，后者安装在转动体的圆柱面上，基体自转轴线与公转轴线垂直，转动体安装在可移动的平台上，使转动体上全部基体相对沉积源有相同的沉积条件。采用这种结构可以向外形比较复杂的诸面沉积薄膜并能得到均匀的沉积层，各涂层面厚度差仅在５～１０％之间，适合于沉积如硬质合金止刀等小尺寸规格的产品。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN86205741

专利申请（专利权）人：北京市有色金属研究总院

专利发明（设计）人：张学华; 程世德; 陈观吾; 王东辉

主权项： 一种涂层装置，包括一个绕固定轴（７）旋转的转动体（２），转动体的支承座（５），若干安装在转动体（２）上并能绕自身轴线旋转的基体支持件（１），至少一个设在转动体（２）下部的沉积源（２１），转动体的传动装置（２２），基体支持件（１）的传动装置以及真空室（４），其特征是：（１）所说的转动体为中空圆柱体，　　（２）所说的基体支持件（１）安装在转动体（２）的圆柱面上，基体支持件（１）的轴线沿转动体半径方向与固定轴轴线大致垂直。

专利地区：北京