具有改进控制电磁幅射作用的处理器装置专利登记公告

专利名称：具有改进控制电磁幅射作用的处理器装置

摘要： 提供一种系统板、连接器、功能卡和框架基座结构，使框架基座中的电磁辐射降低到最小限度，并使卡／板联接器小型化，屏蔽盒直接模制成型在处理器组件框架基座的后板上，框架由聚碳酸酯材料模制而成，内表面镀镍和铜。屏蔽盒中的每一垂直槽由大致Ｕ型的导槽结构构成，用来与外部设备联接，槽是后板导槽结构上的开口，使后壁仅存槽帮。每个导槽可插入一对Ｕ型Ｉ／Ｏ支托。这种设计使装在导槽和支托中的Ｉ／Ｏ连接器的宽度增加３０％。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN88203241.0

专利申请（专利权）人：国际商用机器公司

专利发明（设计）人：塞缪尔·托马斯·杜希; 杰爱·埃斯科; 巴; 切斯特·阿斯伯里乔思; 里查德·丹纳·柯克;肯尼思·林恩·曼斯; 比利·威兼姆斯·穆尔; 杰伊·亨利·尼尔; 里查德·威廉姆·; 肖;维克多·瓦索·扎德瑞

主权项： 一种计算机组件，含有由垂直槽构成的导电结构，通过它实现内部功能卡和外部设备的联接，还有导电支托，它与功能卡相联并用于封盖住该结构中的垂直槽，使得通过槽的电磁辐射为最小，其特征在于：　　结构中每一个槽都是由导电导槽部分形成，并且　　每一个支托都以相配合的Ｕ型元件形式，能安装在其中，并与对应的通道实现电气联接，允许导槽和支托的相对定位，同时使在此间的电磁辐射尽可能减少。

专利地区：美国