专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源专利登记公告

专利名称：专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源

摘要： 一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源，其磁场由条状静止的外磁组件和能作往复运动的内磁组件产生，能对静止的大面积工件表面均匀地镀复阳光控制膜、低辐射膜、镜面膜及导电膜。适用于镀复大面积的工件，如大型建筑玻璃、汽车护栅、露天字牌、大型平面镜等。是一种靶材利用率高、耗能小、膜层均匀度高、投资少效益高的新型溅射源。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN88203433

专利申请（专利权）人：浙江大学

专利发明（设计）人：王德苗

主权项： 一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源，包括一个水冷器，一个磁场源，一个阴极靶，一个屏蔽罩，其特征在于磁场源由二个互相平行的外磁组件［Ｉａ］［Ｉｂ］和多个一字形排列、垂直于外磁组件［Ｉａ］［Ｉｂ］、并能在外磁组件［Ｉａ］［Ｉｂ］之间沿平行于外磁组件［Ｉａ］［Ｉｂ］方向作往复运动的内磁组件［Ⅱａ］［Ⅱｂ］组成；溅射镀膜时，阴极靶［１１］靶面受随内磁组件［Ⅱａ］［Ⅱｂ］作同步运动的等离环离子扫描刻蚀，在阴极靶［１１］正上方静止的大面积工件上沉积薄膜。

专利地区：浙江