等离子体加速器法离子镀膜装置专利登记公告

专利名称：等离子体加速器法离子镀膜装置

摘要： 一种等离子体加速器法离子镀膜装置，属于物理汽相沉积技术。本实用新型注重霍耳加速器效应的使用，加速器中带有圆柱状永久磁铁，永久磁铁与屏蔽相匹配，因此产生的电离蒸汽质量高、加速合理、镀膜效果好，改变了现有技术液滴微团多、加速和镀膜效果较低的现状。可用于仿金装饰、工模具硬化等领域。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN89200444.4

专利申请（专利权）人：北京长城钛金技术联合开发公司

专利发明（设计）人：王殿儒

主权项：一种等离子体加速器法离子镀膜装置，其特征在于：它使用带有圆柱状永久磁铁３的霍耳型等离子体加速器１１作为蒸发离化源。加速器１１的阴极底座４中放入永久磁铁３，把永久磁铁３与筒屏蔽８和平面屏蔽９相匹配产生稳定运行所需的磁场分布和镀膜所要求的粒子的加速度以及粒子分布效果。

专利地区：北京