对称双光束基准光平面发生器专利登记公告

专利名称：对称双光束基准光平面发生器

摘要： 一种对称双光束基准光平面发生器，属于机械几何量形位误差测量领域。本实用新型是由四块光学元件及相应的机械夹持调节机械组成。本装置可产生两束对称光束进行水平方向扫描，这两束光的对称线构成基准光平面，可用于大尺寸高精度平面度测量，特别适合形状复杂的大工件平面度测量，测量精度可达０．５×１０^-6（Ｌ为测量点到出光点的距离，单位米）。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN89200978.0

专利申请（专利权）人：清华大学

专利发明（设计）人：刘兴占; 陈博一; 梁晋文; 花国梁

主权项： 一种对称双光束基准光平面发生器，由激光光源，平面反射镜［１］、［２］、五棱镜［３］、斜棱镜［４］和直角棱镜［５］，以及相应固定调这机构所组成，其特征在于底座［６］与激光光源固定在同一底板上，底座［６］内放置有直角棱镜［５］，底座侧壁有一通孔可使激光光束水平射入底座，经棱角棱镜垂直向上反射，反射镜［１］固定在调节架［７］上并超过内套管［８］与底座固定在一起，五角棱镜［３］、斜棱镜［４］，固定在同一支架［９］上，平面反射镜［２］，固定在支架［１０］上，调节机构［１２］可对反射镜［２］进行调整，支架［９］和支

专利地区：北京